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中国计划今年生产5台DUV设备,目标是在2027年前达到20台
据《信息》报道,中国计划今年生产5台深紫外(DUV)光刻机,并力争到2027年将产量提升至20台。此举体现了中国为提升国内半导体制造能力所做的持续努力。
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中国计划今年生产5台DUV设备,目标是在2027年前达到20台
据《信息》报道,中国计划今年生产5台深紫外(DUV)光刻机,并力争到2027年将产量提升至20台。此举体现了中国为提升国内半导体制造能力所做的持续努力。
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