中国国内でDUVリソグラフィ技術の量産が実現されたとの報道を受け、半導体関連株が下落した
中国政府が支援する企業が、国産深紫外線(DUV)リソグラフィ装置の量産を開始したと報じられたことを受け、ASMLや米国の半導体製造装置関連銘柄の株価が下落した。投資家たちは、この技術的ブレークスルーにより、中国がASMLやその他の欧米サプライヤーへの依存度を低下させ、その結果、将来の売上高が減少したり、米国の輸出規制の長期的な影響が弱まったりする可能性があることを懸念している。
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免責事項:本内容は著者個人の見解であり、投資助言を構成するものではありません。
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