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台积电计划于2030年前采用ASML最新的高数值孔径(High NA)极紫外光刻(EUV)设备进行量产,而三星的目标是2028年投入使用,英特尔则已开始量产。

2026/09/08 05:35
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来源:Nikkei Asia · 原文链接
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