Svmuu新株神”Serenity がXプラットフォームで発言、EU CHIPS法2.0(EU Chips Act 2.0)の提案が正式に発表され、フォトニクス技術がEU政策の構造的構成要素として確認されたことは、フォトニクス産業にとって長期的な好材料であると述べた。提案はフォトニック集積回路および関連技術の発展を明確に支援しており、例えば、フォトニック集積回路の先進的な設計、試作、産業化能力の構築と強化、EUにおけるフォトニクス分野の設計能力の拡大、フォトニック集積回路および関連技術のパイロット生産ラインとオープン半導体製造施設の支援、フォトニック集積回路の設計ライブラリおよび設計自動化ツールの開発と維持などが含まれる。政策の重点分野は以下の通りである:
1、AIデータセンター向けのCo-Packaged Optics(CPO/相互接続)、Sivers(SIVE)に好材料
2、高帯域幅データセンター相互接続のためのシリコンフォトニクス応用、X-FAB(XFAB)に好材料
3、フォトニック集積回路の生産技術能力の強化、Co-Packaged、ヘテロジニアス集積、材料プラットフォームを含む
4、EUにおけるSOIウェハの戦略的地位が確認され、SoitecとSiltronicが参加企業
Serenityの分析によると、本法案は欧州のフォトニクス業界の大手企業、特にAIデータセンターに関連する企業に対して構造的な好材料をもたらすとし、関連銘柄は政策発表後3~15ヶ月以内に順次恩恵を受けると予想され、市場はすでに先行して反応し始めている可能性があるとしている。
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