ASMLは、AIチップ需要の加速的な伸びに牽引され、2028年までに110台以上の極端紫外線(EUV)露光装置を出荷する計画だ。
JPモルガン・チェースのアナリストは、ASMLのロジャー・ダッセンCFOとの会談後、同社が2028年までに110台以上の極端紫外線(EUV)リソグラフィー装置を生産する方法を模索していると述べた。この目標は、2027年に予測される80台のEUVシステムから少なくとも37.5%の増加であり、この生産能力拡大は主にAIチップ需要の急増によって推進されている。ASMLのEUVリソグラフィー装置は最先端のAIプロセッサーの製造に不可欠であり、TSMC、サムスン、SKハイニックス、インテルなどの顧客は先端チップの生産能力を拡大している。ASMLは事実上、EUV市場を独占している。
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出典:Yahoo财经 · 原文リンク
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