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三星电子与ASML深化合作, 推进High-NA EUV技术以生产先进AI芯片
韩国芯片巨头三星电子与荷兰芯片设备制造商ASML周二宣布,将扩大在下一代光刻技术方面的长期合作,该技术对生产先进AI芯片至关重要。此次合作重点关注高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻和先进光掩模解决方案,这些领域预计在芯片制造商突破半导体微缩极限时将变得日益重要。
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三星电子与ASML深化合作, 推进High-NA EUV技术以生产先进AI芯片
韩国芯片巨头三星电子与荷兰芯片设备制造商ASML周二宣布,将扩大在下一代光刻技术方面的长期合作,该技术对生产先进AI芯片至关重要。此次合作重点关注高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻和先进光掩模解决方案,这些领域预计在芯片制造商突破半导体微缩极限时将变得日益重要。
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