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三星電子與ASML深化合作, 推進High-NA EUV技術以生產先進AI芯片
韓國芯片巨頭三星電子與荷蘭芯片設備製造商ASML週二宣佈,將擴大在下一代光刻技術方面的長期合作,該技術對生產先進AI芯片至關重要。此次合作重點關注高數值孔徑極紫外(High-NA EUV)光刻和先進光掩模解決方案,這些領域預計在芯片製造商突破半導體微縮極限時將變得日益重要。
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三星電子與ASML深化合作, 推進High-NA EUV技術以生產先進AI芯片
韓國芯片巨頭三星電子與荷蘭芯片設備製造商ASML週二宣佈,將擴大在下一代光刻技術方面的長期合作,該技術對生產先進AI芯片至關重要。此次合作重點關注高數值孔徑極紫外(High-NA EUV)光刻和先進光掩模解決方案,這些領域預計在芯片製造商突破半導體微縮極限時將變得日益重要。
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