韩国芯片巨头三星电子与荷兰芯片设备制造商ASML周二宣布，将扩大在下一代光刻技术方面的长期合作，该技术对生产先进AI芯片至关重要。此次合作重点关注高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻和先进光掩模解决方案，这些领域预计在芯片制造商突破半导体微缩极限时将变得日益重要。