韓國芯片巨頭三星電子與荷蘭芯片設備製造商ASML週二宣佈，將擴大在下一代光刻技術方面的長期合作，該技術對生產先進AI芯片至關重要。此次合作重點關注高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻和先進光掩模解決方案，這些領域預計在芯片製造商突破半導體微縮極限時將變得日益重要。